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据悉，光刻机作为半导体设备三大件之一，是人类文明智慧的结晶，被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”。

公开资料显示，光刻机是芯片制造中光刻环节的核心设备，技术含量、价值含量极高。它采用类似照片冲印的技术，把掩模版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上，经过十余代的发展迭代，目前最先进光刻机单次曝光可以做到低于5nm的分辨率。

根据全球半导体设备市场规模估算，2021年全球光刻机市场规模为181亿美元，预计2022年将达到201亿美元。全球光刻机前三大厂商的市场份额占比达90%以上，根据前三大厂商的销售数据显示，2015-2021年,全球光刻机销售量总体增长，2021年达478台。

光刻机市场集中度高，ASML、Nikon、Canon市场占有率超过90%，其中ASML由于其技术领先，垄断了EUV光刻机，独占75%的市场份额，Nikon与Canon分别占据13%和6%的市场份额。ASML的光刻机技术在全球处于绝对领先地位，EUV领域ASML市占率为100%，ArFi、ArF领域市占率分别高达96%、88%。

国内光刻机产业起步较晚，与海外具体差距明显。1977年，清华大学精密仪器系、中科院光电所、中国电子科技集团公司第四十五研究所（简称中电科45所）等先后投入研制光刻机。我国也时隔近十年，研制出了具有一定代表意义的光刻机——接触式光刻机GK-3型半自动光刻机。

光刻机产业链主要包括上游设备及配套材料、中游光刻机系统集成和生产及下游光刻机应用三大环节，技术极为复杂，涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，部分机型所需的零部件更是多达数十万件，因此光刻机的生产通常涉及上千家供应商。

其中，光刻机上游国内代表企业包括福晶科技、奥普光电、南大光电、容大感光、华润微、精测电子、芯源微、菲利华、清溢光电、茂莱光学、美埃科技等。

此外，据财联社不完全整理，近期在互动易平台回复光刻机相关业务的上市公司包括赛微电子、大族激光、炬光科技、张江高科、联合光电、晶瑞电材、英唐智控、美迪凯、同兴达等。

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