反应离子刻蚀（关于反应离子刻蚀的基本详情介绍）-天天观察
2023-07-04 01:08:28 来源：互联网
(资料图)
1、反应性离子刻蚀（reaction ionetching；RIE）是制作半导体集成电路的蚀刻工艺之一。
2、在除去不需要的集成电路板上的保护膜时，利用反应性气体的离子束，切断保护膜物质的化学键，使之产生低分子物质，挥发或游离出板面，这样的方法称为反应性离子刻蚀。
本文关于反应离子刻蚀的基本详情介绍就讲解完毕，希望对大家有所帮助。
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